◎慶応大学の吉岡 直樹先生より第9回ニトロキシドラジカル国際会議（SPIN-2023）の
お知らせがありましたので、ご案内いたします。
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第9回ニトロキシドラジカル国際会議（SPIN-2023）
主 催：第9回ニトロキシドラジカル国際会議組織委員会
協 賛：電子スピンサイエンス学会（予定）・高分子学会・日本化学会有機結晶部会
会 期：9月24日（日）～28日（木）
開催方式：対面式(一部オンライン講演を含む)
会 場：慶應義塾大学日吉キャンパス独立館（神奈川県横浜市港北区日吉4-1-1）
〔交通〕東急東横線・目黒線・新横浜線、横浜市営地下鉄グリーンライン 日吉駅 徒歩1分
基調講演：Valery Khramtsov(ウェストバージニア大),
Igor Kirilyuk（ノヴォシビルスク有機化学研究所）, Murali Krishna（NIH)
招待講演：石田尚行（電通大）,草本哲郎（大阪大）, Enrico Salvadori(トリノ大),
Dmitrii Mazhukin（ノヴォシビルスク有機化学研究所）, Eunsung Lee(POSTEC)
発表申込締切：口頭発表、ポスター発表：8月11日（金）
予稿原稿締切：8月18日（金）
参加登録事前予約締切：8月31日（木）
参加登録予約申込方法：HP（https://www.spin-2023.org/）をご確認ください
討論主題：
ニトロキシドなど安定有機ラジカルの合成研究、ラジカルの機能物性評価、
ラジカルを利用したESR計測、ラジカルの医薬・生体への応用、
材料科学へのラジカルの応用（電池、分子磁性など）
発表形式：口頭発表（一般講演、質疑応答を含め30分または15分）、ポスター発表
参加登録費：一般35,000円（当日40,000円）、学生15,000円（当日20,000円）
懇親会：27日(水)夕刻 ホテルニューグランドにて開催 会費15,000円
問合先：第9回ニトロキシドラジカル国際会議組織委員会事務局 吉岡直樹・三浦洋平
E-mail：SPIN-2023_secretariat-group@keio.jp https://www.spin-2023.org/
電話(045)566-1585 FAX(045)566-1551
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